快科技7月28日音讯，跟着半导体工艺深化到5nm以下，制作难度与本钱日积月累，摩尔定律的物理极限大约在1nm左右，再往下就要面对严峻的量子隧穿难题，导致晶体管失效。

  当然，各大厂商的先进工艺在实践尺度上都是有水分的，所以纸面意义上的1nm工艺仍是会有的，台积电上一年就组成团队研制1.4nm工艺，日前CEO刘德音又表明已经在探究比1.4nm更先进的工艺了。

  1.4nm再往下便是1nm工艺了，这也是半导体职业都在寻求的工艺，上一年IMEC欧洲微电子中心发布的道路年面世，再往后便是A10工艺，也便是1nm，2028年面世。

  当然，实践能量产的时刻或许回比2028年晚一些，究竟新技能不跳票是不或许的。

  与此同时，在2nm节点之后的新工艺研制生产中，EUV光刻机也要大晋级一次，ASML估计会在2026年推出High NA技能的下一代EUV光刻机EXE:5000系列，将NA目标从当时的0.33提高到0.55，逐渐提高光刻分辨率。

  可是下一代EUV光刻机的价值也很高，价格会从现在1.5亿美元提高到4亿美元以上，终究价格或许还要涨，30亿一台设备很检测厂商的本钱操控。

• 上一篇: 海优新材2023年半年度董事会经营评述
• 下一篇: 8千-15万薪资浙江惟能新材料8个岗位在招